講演情報
[8p-S202-6]マテリアルズインフォマティクスと量子アニーリングによる半導体洗浄プロセス向け新規材料探索
〇國枝 省吾1、塙 洋祐1、高辻 茂1、佐々木 悠太1、室 和希2、羽場 廉一郎2、藤倉 忍2 (1.SCREENホールディングス、2.シグマアイ)
キーワード：
マテリアルズインフォマティクス、量子アニーリング、DX
半導体の微細化・三次元構造化に伴い、洗浄・乾燥工程でのパターン倒壊が課題となっている。昇華乾燥法を用いるとパターン倒壊を抑制できるが、適切な昇華材料の選定が不可欠である。本研究では、少数の実験データに対し、機械学習と最適化計算を活用することで、有望な材料の効率的な選定と評価を実施した。講演では、材料特性の予測や画像解析を活用したプロセス最適化の事例も紹介する。