セッション詳細
[8p-S202-1~8]Lab to Fab：研究開発と量産を最速でつなぐ半導体DX
2025年9月8日(月) 13:30 〜 18:25
S202 (共通講義棟南)
[8p-S202-1]デジタルツインで加速する研究開発から製品化への道筋
〇三津江 敏之1 (1.デロイトトーマツコンサルティング)
[8p-S202-2]CMP過程のコンピュータシミュレーション
〇島田 敏宏1、横倉 聖也1、和泉 廣樹1 (1.北大工)
[8p-S202-3]ニューラルネットワークポテンシャルを用いた分子動力学法による化学機械研磨機構の解析
〇奥野 好成1 (1.株式会社レゾナック)
[8p-S202-4]機械学習と数理最適化の融合(MOAI)による革新
〇久保 幹雄1,2 (1.東京海洋大学、2.MOAI Lab.)
[8p-S202-5]100%ドライラボの異分野融合研究
〇岩見 真吾1 (1.名古屋大学)
[8p-S202-6]マテリアルズインフォマティクスと量子アニーリングによる半導体洗浄プロセス向け新規材料探索
〇國枝 省吾1、塙 洋祐1、高辻 茂1、佐々木 悠太1、室 和希2、羽場 廉一郎2、藤倉 忍2 (1.SCREENホールディングス、2.シグマアイ)
[8p-S202-7]半導体製造装置における機械学習を活用した樹脂耐薬評価の高速化
〇仲村 武瑠1、山家 暢1、國枝 省吾1、塙 洋祐1、上島 仁2、新谷 俊了2、杉山 竣哉2、林 慶浩3、吉田 亮3 (1.SCREENホールディングス、2.システム計画研究所、3.統数研)
[8p-S202-8]300 mmウェハを見据えた2D/2.5Dマテリアルの量産化技術
〇吾郷 浩樹1,2、ソリス-フェルナンデス パブロ1 (1.九大院総理工、2.九大半導体セ)