講演情報

9:15 〜 9:30

[9a-N401-2]AFMリソグラフィーと二次元炭素材料アシストエッチングを利用したシリコンナノ構造体の作製

〇(M2)三浦有貴¹、宇都宮徹¹、一井崇¹ (1.京大院工)

キーワード：

エッチング、半導体、リソグラフィー

半導体表面微細加工技術の一つとして炭素材料を用いたアシストエッチングが報告されている．この手法によりナノ構造を作製するには触媒材料の選択的な位置へのパターニング技術が必要である．また，炭素材料の微細加工技術として原子間力顕微鏡 (AFM) を利用したリソグラフィー技術が報告されている．本研究ではこの炭素材料アシストエッチングとAFMリソグラフィーの２つの手法を組み合わせ，シリコンナノ構造の作製を試みた．

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