講演情報
[9a-P05-2]溶液処理を施したH/Si(111)の表面状態に関する再検証
-SPMの測定モードに依存した可視化メカニズムの観点から-
〇高橋 亜弓1、Fitriana Syafira Az Zahrah1、百濃 尚子1、稲垣 耕司1、有馬 健太1 (1.阪大院工)
キーワード：
非接触原子間力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡、Si(111)
次世代電子デバイスでは、多様な半導体表面の構造を精緻に制御することが求められる。これには、原子レベルで表面構造を把握する必要がある。本研究では、原理的には試料の導電性を問わず高い空間分解能を持つ非接触型原子間力顕微鏡（nc-AFM）と走査型トンネル顕微鏡（STM）の両方により、溶液処理後のH/Si(111)表面を観察した。得られた画像を比較すると共に、可視化メカニズムの観点から表面状態を考察した。