2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)
13 半導体:13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
[9a-P05-1~3]
13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
2025年9月9日(火) 9:30 〜 11:30
P05 (体育館)
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[9a-P05-1]
p型Si,Geにおける状態密度の歪効果
〇松田 和典
1
、山本 雅史
2
、国本 崇
3
、森 伸也
1
(1.阪大院工、2.香川高専、3.徳文大理工)
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[9a-P05-2]
溶液処理を施したH/Si(111)の表面状態に関する再検証
-SPMの測定モードに依存した可視化メカニズムの観点から-
〇高橋 亜弓
1
、Fitriana Syafira Az Zahrah
1
、百濃 尚子
1
、稲垣 耕司
1
、有馬 健太
1
(1.阪大院工)
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[9a-P05-3]
柱状ナノパターン乾燥におけるパターン閉塞発生条件の解析
ガナシェフ イヴァン
1
、〇山本 悠人
1
、中野 晴香
1
(1.芝浦メカトロニクス(株))
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