講演情報
[9a-P05-3]柱状ナノパターン乾燥におけるパターン閉塞発生条件の解析
ガナシェフ イヴァン1、〇山本 悠人1、中野 晴香1 (1.芝浦メカトロニクス（株）)
キーワード：
半導体
半導体デバイス製造工程における洗浄工程では、パターンの閉塞が深刻な課題となっている。今回、垂直ピラーパターンを用いてその現象が発生するモデルの検討を行った。ピラーの閉塞は毛細管力によって発生する。非変形な状態ではその力は釣り合っているが、ピラーの微小な変化によってそのつり合いは崩れ、閉塞に至る。我々はそれをピラーの微小な変化に伴う液体表面エネルギーの変化として計算することで、閉塞の有無を導出した。