講演情報

[9p-N306-3]Yb系固体レーザーの極超短パルスによる誘電体レーザー加工

〇(M1)川中 厚之介1、櫻井 治之1、川野 将太郎1、陳 柏翰2、謝 景俞2、蘇 家軒2、楊 尚達2、小西 邦昭1 (1.東大院理、2.国立清華大)

キーワード:

超短パルスレーザー加工、誘電体、マルチプレート圧縮法

本研究では、高出力Ybレーザーとマルチプレート圧縮法を組み合わせて得られた高安定なサブ10 fsパルスを用いて誘電体加工を行い、より長いパルス幅の光を用いた場合との比較に基づいて加工特性を評価した。SEM観察の結果、パルス幅が230 fsから20 fsになると加工品質が劇的に向上し、さらに9 fsでは加工穴の均一性がより向上することが明らかになった。