[9p-N321-1~17] 15.4 III-V族窒化物結晶

15:30 〜 15:45

[9p-N321-8] 高濃度ドナー添加縮退GaNに対するノンアロイ接触金属の検討

〇岡部 耕平¹、内藤 愛子¹、上野 耕平¹、藤岡 洋¹ (1.東大生研)

キーワード：

ドーピング、窒化ガリウム、接触抵抗