講演情報
[9p-P15-1]プラズマALD法による高反射率多層膜の評価
〇森 浩一1、田中 こずえ1、鳥居 博典1 (1.JSWアフティ株式会社)
キーワード：
原子層堆積、高反射率多層膜、プラズマ
プラズマALD法でAl2O3、Ta2O5、TiO2膜を組み合わせた多層膜の光学特性と段差被覆性の評価を行った。トップ、サイド、ボトムに膜厚差が少ない優れた段差被覆性を示した。TiO2の成膜温度200℃と300℃の(Al2O3 / TiO2)-8ペアの反射率はそれぞれ99.8％と98.8％となり差異が見られた。300℃のTiO2 膜の表面には結晶粒が観察され粗い表面形状を示していた。この結晶粒によって多層膜界面で散乱が生じ、反射率の低下が引き起こされたと考えられる。