セッション詳細

[8p-N102-1~6]量子ビームの半導体プロセス・評価技術への応用

2026年9月8日(火) 13:30 〜 16:50
N102 (総合教育棟 N棟)

[8p-N102-1]SPring-8-IIが拓く先端半導体解析技術の新展開

〇初井 宇記1 (1.理研)

[8p-N102-3]GaNパワー半導体応用に向けたGaN(0001)へのMgのチャネリングイオン注入

〇須山 篤志1、南川 英輝1、青木 正彦1、横田 一広1 (1.株式会社イオンテクノセンター)

[8p-N102-4]インレンズ型FE-SEMを用いた半導体断面観察における高品質データ取得の自動化および効率化

〇田中 駿也1、福地 佑介2、砂押 毅志2、切畑 大二2、岡田 聡2 (1.日立製作所、2.日立ハイテク)

[8p-N102-5]電子・イオンビームを用いた微細加工装置の最前線

〇杉原 達記1 (1.(株)エリオニクス)

[8p-N102-6]半導体製造を支える電子線検査計測技術

〇岩淵 裕子1 (1.株式会社日立ハイテク)