講演情報
[1B08]中性子を用いた水/グリセリン/EO30PS3成分系の乾燥過程の構造解析
*宇山 允人1、シュタイツ ローランド3、トラップ マーカス3、ノイリー ローレンス4、バイヤー セバスチャン2、グラジエルスキー ミハエル2 (1. 株式会社資生堂みらい開発研究所 (日本)、2. ベルリン工科大学 (ドイツ)、3. ヘルムホルツ中央研究所 (ドイツ)、4. レオンブルリアン研究所 (フランス))
キーワード:
中性子散乱、中性子反射率、塗布乾燥過程
中性子散乱、中性子反射率、塗布乾燥過程