講演情報

[P6-01]アミノ基修飾ガラス上の酸化グラフェン層形成による高密着無電解銅めっきの開発

*中筋 渉1、郷田 隼2、川﨑 英也3 (1. 関西大院理工 (日本)、2. 株式会社日本触媒 (日本)、3. 関西大化学生命工 (日本))

キーワード:

無電解銅めっき、ガラス基板、界面平滑性、凝集破壊

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