[3A08-11] 11. 特別シンポジウム: 日本―台湾二国間交流シンポジウム

13:35 〜 13:55

[3A09] Applying Colloidal Lithography to Nanostructured and Functionalized Conducting Polymers

Chia-Hsin Lin¹, Hsun-Hao Lin¹, *Shyh-Chyang Luo¹ (1. National Taiwan University (Taiwan))

キーワード：

colloidal lithography、nanostructure effect、antifouling surfaces、surface wettability

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