講演情報

14:25 〜 15:05基調講演

[S4.4][基調講演] 強電場／電流効果を利用したセラミックスの高速・低温プロセッシングに向けて

*吉田英弘¹、増田紘士¹、森田孝治²、山本剛久³ (1. 東大工、2. NIMS、3. 名大)

酸化物、粒界、高温力学特性、拡散、電場

本講演では、セラミックスの高速・低温プロセッシングの実現に向け、特に高温での粒界・界面現象における強電場／電流効果に関する最近の研究成果と将来展望を概観する。