[P] P192~P211

[P197] 高Si濃度Fe-B-Siアモルファス合金薄帯の幅広・薄板化のための作製条件の検討

*藤田 友隆¹、尾藤 輝夫² (1. 秋田県大システム研(院生)、2. 秋田県大)

キーワード：

アモルファス合金、低磁気損失軟磁性材料、幅広・薄板化、高電気抵抗率

高周波部品用の高電気抵抗率・低磁気損失軟磁性材料の実現を目指し，電気抵抗率が高い高Si濃度Fe-B-Si系アモルファス合金薄帯の高周波軟磁気特性を評価するため，幅広かつ薄い試料の作製条件について検討した．