[P] P192~P211

[P198] Geを部分置換したFeNi薄膜の構造と磁気特性

*山崎 佑斗¹、三浦 勇人、土井 正晶²、嶋 敏之² (1. 東北学院大工(院生)、2. 東北学院大工)

キーワード：

磁性薄膜、レアアースフリー、FeNi系合金

本研究では、窒化脱窒素法を用いてGeを部分置換した[Fe/Ni]₄₀薄膜を作製し、置換による結晶構造および磁気特性に及ぼす変化を詳細に調査した。