[P] P212~P240

[P233] 電子照射によるCr/アモルファスSiO_x薄膜界面での固相反応と微細構造解析

*高橋 和希¹、佐藤 和久² (1. 阪大工（院生）、2. 阪大電顕セ)

キーワード：

電子照射、Crシリサイド、電子励起効果、透過電子顕微鏡、界面固相反応

RF マグネトロンスパッタ法を用いてCr/アモルファスSiO_x薄膜を作製した。作製した試料薄膜に対して、透過電子顕微鏡を用いてエネルギー75keVにて電子照射を行ったところ、試料薄膜中にCr₃Siが一部生成した。