セッション詳細

[23p-B205-1~5]13.2 探索的材料物性・基礎物性

2023年9月23日(土) 13:30 〜 14:45
B205 (市民会館)
山口 憲司(量研機構)

[23p-B205-1]近接蒸着法により成膜した CaSi2の SiH への変換

〇高垣 僚太1、有元 圭介1、山中 淳二1、黒澤 昌志2、原 康祐1 (1.山梨大クリスタル研、2.名大院工)

[23p-B205-2]Nax(AlyGe1-y)136膜の構造および光学的評価

〇福田 悠馬2、Tun Naing Aye1、Kumar Rahul1、Jha Himanshu1、大橋 史隆1、久米 徹二1,2 (1.岐阜大工、2.岐阜大院自)

[23p-B205-3]MBE法によるβ-FeSi2上へのGe成長とひずみ評価

〇石飛 新太郎1、長友 颯一朗1、寺井 慶和1 (1.九工大情報工)

[23p-B205-4]β-FeSi2 pnホモ接合における分光感度のSi/Fe供給比依存性

〇田中 光太1、神田 秀和1、寺井 慶和1 (1.九工大情報工)

[23p-B205-5]n-ナノ結晶 β-FeSi2含有Si薄膜/p-Siヘテロ接合素子の光起電力特性改善

〇(M1)吉村 賢太1、城所 拓海1、勝俣 裕1 (1.明大理工)