[17a-B1-1~7] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 | 2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会

セッション詳細

一般セッション(口頭講演)13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2024年9月17日(火) 9:00 〜 11:00

B1 (展示ホールB)

居村史人(Hundred Semiconductors)、呉研(東工大)

9:00 〜 9:15

〇岩松新之輔^1,2、峯田貴² (1.山形県工技セ、2.山形大学工学部)

9:15 〜 9:30

〇天本百合奈¹、照元幸次¹、下地規之¹、内貴崇¹、合田賢司¹、木村俊¹、奥良彰¹ (1.ローム(株))

9:30 〜 9:45奨励賞エントリー

〇(B)向出千隼¹、Devi Srujana Tenneti¹、御宿希祐¹、山田虎人¹、町田克之¹、栗岡智行¹、Tso-Fu Mark Chang¹、曽根正人¹、三宅美博¹、伊藤浩之¹ (1.東工大)

9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

〇(B)山田虎人¹、御宿希祐¹、Tenneti Devi Srujana¹、向出千隼¹、町田克之¹、Chang Tso-Fu Mark¹、栗岡智行¹、曽根正人¹、三宅美博¹、伊藤浩之¹ (1.東工大)

10:15 〜 10:30

〇小粥敬成¹、関藤竜平¹、田中宏幸²、居村史人³、谷島孝¹、原史朗^1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.Hundred)

10:30 〜 10:45英語発表

〇Qian Liu¹, Mirai Iimori¹, Ya Zhang¹ (1.Inst. of Eng., Tokyo Univ. of Agri. &Techno.)

10:45 〜 11:00

〇笠嶋悠司¹、松川貴¹、上嶋和也¹、山岸雅司¹、林喜宏¹ (1.産総研先端半導体RC)