セッション詳細
[18a-B3-1~6]6.1 強誘電体薄膜
2024年9月18日(水) 10:30 〜 12:00
B3 (展示ホールB)
吉村 武(阪公大)
[18a-B3-1]c 軸垂直および傾斜 ScAlN の大面積成膜に向けた矩形カソードスパッタリング
〇(M2)浴田 航平1,2、島野 耀康1,2、柳谷 隆彦1,2 (1.早大先進理工、2.材料技術研究所)
[18a-B3-2]Zn-Ti-N圧電薄膜の作製とAl添加効果
〇上原 雅人1、井上 ゆか梨2、平田 研二1、寺田 朋広2、木村 純一2、山田 浩志1、秋山 守人1 (1.産総研、2.TDK株式会社)
[18a-B3-5]FeRAM向け (Al,Sc)N膜における強誘電特性の膜厚依存性評価
〇道古 宗俊1、松井 尚子1、入澤 寿和1、恒川 孝二1、Nana Sun2、中村 美子2、岡本 一輝2、舟窪 浩2 (1.キヤノンアネルバ、2.東工大)