[10a-N401-1~9] 13.3 絶縁膜技術

10:45 〜 11:00

[10a-N401-8] 低温スパッタHfO₂を使ったMOSCAPの絶縁/界面特性

〇(M1)高木 駿翼¹、吉田 俊幸¹、葉 文昌¹ (1.島根大)

キーワード：

high-k膜、MOS CAP