講演情報
[10a-N403-5]軟X線レーザー干渉顕微鏡用Schwarzschildミラーの開発(2)
〇(M1)藤澤 悠太1、槫松 哲也1、石野 雅彦2、豊田 光紀1 (1.東京工芸大工、2.量研関西研)
キーワード：
Mo/Si多層膜ミラー、周期長分布制御、極紫外線 （EUV）
軟X線レーザー干渉顕微鏡に用いる、動作波長13.9nmでの回折限界結像を提供するSchwarzschildミラーの開発について報告する。高反射率を実現する光学系や多層膜ミラーの周期長分布の設計、マグネトロンスパッタ装置を用いた複数の試料の試作、そして試料の評価を基とした成膜を行い、凹面ミラー基板の規格化動径座標+0.9付近（規格化半径25mm）で周期長分布の設計値に対して誤差0.9％以下を実現した。