講演情報

13:30 〜 13:45奨励賞エントリー

[10p-N301-1]AlN極性反転構造における界面酸化プロセスの影響

〇玉野智大¹、赤池良太^1,2、安永弘樹^2,3、中村孝夫^1,2、赤瀬善太郎⁴、冨谷茂隆⁴、三宅秀人^1,2 (1.三重大院工、2.三重大半導体・デジタル未来創造センター、3.三重大研究基盤推進機構、4.奈良先端大)

窒化アルミニウム、極性反転構造、スパッタリング