講演情報

16:00 〜 16:15

[10p-N302-10]微細配線応用を目指したCoSnカゴメ金属薄膜の作製

〇中谷友也¹、Suwannaharn Nattamon¹、佐々木泰佑¹ (1.NIMS)

配線、カゴメ金属

配線材料応用を目的に、異方性導電材料CoSnカゴメ金属の単結晶薄膜を作製し、結晶方位による抵抗率の異方性を評価した。c軸方向で13 µΩcm、a軸方向で118 µΩcmと、バルク同様の顕著な異方性を示した。