セッション詳細
[10p-N302-1]ロジックトランジスタを用いた混載フラッシュメモリの最適化設計
〇平野 博茂1、野間 淳史1、栗山 寛明1 (1.タワーパートナーズセミコンダクター)
[10p-N302-3]エネルギー最小点動作PIMに応用可能な高ノイズ耐性SRAMセル
伊藤 克俊1、〇藤原 拓真1、塩津 勇作1、菅原 聡1 (1.東京科学大学・未来研)
[10p-N302-7]ナノインプリントリソグラフィによるHP19nm L/Sパターンのハードマスクエッチングの評価
〇鈴木 健太1、上田 哲也1、笠嶋 悠司1、濱本 亮輔1、深沢 正永1、水林 亘1、林 喜宏1、石田 真幸2、舩吉 智美2、日浦 広実2、香川 正行2、長谷川 敬恭2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.Canon)
[10p-N302-8]ナノインプリントリソグラフィによるデュアルダマシン(DD)配線のパターニング形状評価
〇濱本 亮輔1、鈴木 健太1、上田 哲也1、林 喜宏1、水林 亘1、石田 真幸2、日浦 広美2、香川 正行2、日下 敦之2、小楠 誠2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.キヤノン)
