セッション詳細
[10p-N302-1~11]13.5 デバイス/配線/集積化技術
2025年9月10日(水) 13:30 〜 16:30
N302 (共通講義棟北)
多田 宗弘(慶応大)
[10p-N302-7]ナノインプリントリソグラフィによるHP19nm L/Sパターンのハードマスクエッチングの評価
〇鈴木 健太1、上田 哲也1、笠嶋 悠司1、濱本 亮輔1、深沢 正永1、水林 亘1、林 喜宏1、石田 真幸2、舩吉 智美2、日浦 広実2、香川 正行2、長谷川 敬恭2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.Canon)
[10p-N302-8]ナノインプリントリソグラフィによるデュアルダマシン(DD)配線のパターニング形状評価
〇濱本 亮輔1、鈴木 健太1、上田 哲也1、林 喜宏1、水林 亘1、石田 真幸2、日浦 広美2、香川 正行2、日下 敦之2、小楠 誠2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.キヤノン)