講演情報
[10p-N302-8]ナノインプリントリソグラフィによるデュアルダマシン（DD）配線のパターニング形状評価
〇濱本 亮輔1、鈴木 健太1、上田 哲也1、林 喜宏1、水林 亘1、石田 真幸2、日浦 広美2、香川 正行2、日下 敦之2、小楠 誠2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.キヤノン)
キーワード：
ナノインプリント、デュアルダマシン、配線工程
多層配線工程の大幅なプロセス低減を目指し、デュアルダマシン（DD）配線工程へのナノインプリントリソグラフィ（NIL）の適用を検討した。マルチレベルのテンプレート（マスク）を用いて配線層とビア構造を同時形成することで、従来の光リソグラフィに比べ工程削減の可能性が示された。当日の講演では、NIL技術やNILを用いたDD工程に関する説明、形成した配線層とビアのパターニング精度について報告する予定である。