[10p-N324-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

15:15 〜 15:30奨励賞エントリー

[10p-N324-7] 気相中ラジカル組成比がCF_xの付着確率に及ぼす影響

〇(M2)来島 拓海¹、堤 隆嘉²、関根 誠²、井上 健一²、石川 健治² (1.名大院工、2.名大プラズマ)

キーワード：

付着確率

シミュレーションを用いた高アスペクト比エッチング研究において高精度な粒子輸送モデルを構築するためには微細孔内の保護膜に対するラジカルの付着確率の値が不可欠である。我々はオリフィスを通過したラジカル量に基づいて付着確率を定量化する手法の確立に取り組み、C₄F₈プラズマ中のCF_xの付着確率を明らかにした。今回はガス種をCF₄に変更し、気相中のラジカル組成比や保護膜の膜質と付着確率の関係性を調査した。