講演情報
[10p-N403-4]EUVレジスト評価のための電子線照射装置の開発
〇(M1)山崎 隆一1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学)
キーワード：
EUV、リソグラフィー、電子線
高感度なEUVレジスト開発のため種々のエネルギーの電子線を照射し、電子とレジストの反応を調べた。185 eVの電子線では、91.8 eVの場合と比較して約半分のDose量で同程度の膜厚減少値が得れた。Dose量をµC/cm²からmJ/cm²へ変換し、電子と光の照射結果を比較すると、異なるエネルギーの電子線照射結果は一致し、光の照射結果ではBEUVはEUVの1/6倍の感度であることが分かった。