講演情報
[10p-N403-7]電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析（２）
〇多田 皓星1、田中 琉暉1、若松 大翔1、安田 雅昭1 (1.阪公大院工)
キーワード：
現像、レジスト、リゾグラフィ
ネガ型レジストを対象に電子線リゾグラフィにおける現像過程を再現する分子動力学解析を実施している。本研究では、現像におけるレジスト分子のサイズ依存性や重合度の分散依存性を中心に解析した結果を報告する。解析結果では、レジスト分子の重合度の増加とともに現像による溶解分子数は大きく減少している。また、現像における分子量分散の重要性を示唆する結果が得られた。