[7a-N201-1~10] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

10:45 〜 11:00

[7a-N201-6] Mist CVD法による2-inch α-Cr₂O₃テンプレート上へのα-Ga₂O₃膜成長

〇飯田 隆真¹、山田 琴乃¹、肖 世玉²、村上 和仁²、山口 勇豪¹、西尾 宗真¹、尾沼 猛儀¹、本田 徹¹、渡邊 守道²、今井 克宏²、山口 智広¹ (1.工学院大学、2.日本ガイシ(株))

キーワード：

酸化ガリウム、ミストCVD法、2-inch