[7a-S103-1~7] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（２）

10:35 〜 11:05

[7a-S103-3] 機械学習と数理モデルを用いた半導体成膜プロセスの開発

〇京兼 広和¹ (1.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社)

キーワード：

半導体製造装置、ALD、CVD