[7a-S103-1~7] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（２）

11:50 〜 12:05奨励賞エントリー

[7a-S103-7] アミノ系Siプリカーサのリガンドの相違によるSiO₂成長への影響

〇(D)土射津 佑起¹、大塚 照久²、山崎 将嗣²、大堀 大介¹、遠藤 和彦¹ (1.東北大流体研、2.産総研)

キーワード：

アミノ系プリカーサ、ALD、insitu-XPS