講演情報
[7p-N102-3]シリコン量子ビット集積化技術開発における電子線リソグラフィの活用
加藤 公彦1、〇森 貴洋1 (1.産総研)
キーワード：
半導体、量子ビット、電子線リソグラフィ
既存の集積化技術を活用できるシリコン量子ビット素子は、大規模集積性という観点で注目を集めている。その特徴サイズはEUVリソグラフィレベルとなるため、研究開発ステージでは電子線リソグラフィ技術が活用される。我々は、中間成分を考慮した近接効果補正の実施が、シリコン量子ビット集積化技術開発において有用であると考えており、本講演では補正と実描画とを照らし合わせた実験結果を中心にその効果を紹介する。