2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：ナノ荷電粒子ビーム技術の最先端

[7p-N102-1~7]ナノ荷電粒子ビーム技術の最先端

2025年9月7日(日) 13:30 〜 16:30
N102 (共通講義棟北)
谷口 淳(東理大)、 西 竜治(福井工大)
13:30 〜 14:00

[7p-N102-1]ヘリウムイオン顕微鏡技術の応用：欠陥形成による薄膜物性制御とそのデバイスへの応用

〇小川 真一1 (1.産総研先端半研セ)
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14:00 〜 14:30

[7p-N102-2]イオン照射による低温結晶化技術とその応用

〇池永 訓昭1、作道 訓之1 (1.金沢工大工)
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14:30 〜 15:00

[7p-N102-3]シリコン量子ビット集積化技術開発における電子線リソグラフィの活用

加藤 公彦1、〇森 貴洋1 (1.産総研)
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15:00 〜 15:30

[7p-N102-4]電子線励起プローブを用いた高空間分解能顕微技術とその応用

〇益田 有1,3、居波 渉1,3、川田 善正2,3 (1.静岡大工、2.静岡大電研、3.JST-CREST)
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15:30 〜 16:00

[7p-N102-5]電子ビームリソグラフィにおける３次元ドーズ量分布とレジスト断面形状制御への応用

〇杉原 達記1、金子 新2 (1.(株)エリオニクス、2.都立大)
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16:00 〜 16:15

[7p-N102-6]斜入射電子ビーム露光法による微細傾斜回折格子の作製と NIL 転写

〇柴崎 尚也1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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16:15 〜 16:30

[7p-N102-7]RIEとNILによる近赤外線反射防止フィルムの作製

〇(M1C)平田 圭1、谷口 淳1 (1.東理大先工)
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