セッション詳細

[7p-N102-1~7]ナノ荷電粒子ビーム技術の最先端

2025年9月7日(日) 13:30 〜 16:30
N102 (共通講義棟北)

[7p-N102-2]イオン照射による低温結晶化技術とその応用

〇池永 訓昭1、作道 訓之1 (1.金沢工大工)

[7p-N102-3]シリコン量子ビット集積化技術開発における電子線リソグラフィの活用

加藤 公彦1、〇森 貴洋1 (1.産総研)

[7p-N102-4]電子線励起プローブを用いた高空間分解能顕微技術とその応用

〇益田 有1,3、居波 渉1,3、川田 善正2,3 (1.静岡大工、2.静岡大電研、3.JST-CREST)

[7p-N102-5]電子ビームリソグラフィにおける3次元ドーズ量分布とレジスト断面形状制御への応用

〇杉原 達記1、金子 新2 (1.(株)エリオニクス、2.都立大)

[7p-N102-6]斜入射電子ビーム露光法による微細傾斜回折格子の作製と NIL 転写

〇柴崎 尚也1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)

[7p-N102-7]RIEとNILによる近赤外線反射防止フィルムの作製

〇(M1C)平田 圭1、谷口 淳1 (1.東理大先工)