講演情報
[7p-N102-6]斜入射電子ビーム露光法による微細傾斜回折格子の作製と NIL 転写
〇柴崎 尚也1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
キーワード：
電子ビームリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィ
近年ARグラスなどのヘッドマウントでスプレイは我々の生活をより豊かにしている。これらには装着者の目に情報を与えるため、グラス表面上にスランテッド型回折格子が用いられている。作製するのに、電子ビーム露光後(EBL)に斜め方向からドライエッチングを行うなど多くの工程が必要である。そこで本研究では試料を45度傾けた状態でEBLを行い、斜め回折格子モールドを作製し、それを金型としてUV-NILにより転写した。