講演情報
[7p-N102-7]RIEとNILによる近赤外線反射防止フィルムの作製
〇(M1C)平田 圭1、谷口 淳1 (1.東理大先工)
キーワード：
ナノ構造、反射防止、近赤外線
反応性イオンエッチングを利用して, 反射防止構造であるモスアイ構造を作製できる. これを金型としてナノインプリントリソグラフィをすることで, 低反射率かつ高透過率のフィルムを得ることができる. こうして作製したフィルム上のモスアイ構造の高さを大きくすることで, 可視光線だけでなく, 近赤外線の反射率も1%程度にすることができる.