[7p-N202-1~14] 6.4 薄膜新材料

16:45 〜 17:00奨励賞エントリー

[7p-N202-13] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜(4)

〇森川 康大¹、田島 直弥¹、松平 学幸²、室谷 裕志¹ (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード：

光学薄膜、二酸化ケイ素、機械的特性