[7p-N301-1~17] CS.7 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

13:30 〜 13:45

[7p-N301-3] 共添加HfO₂系強誘電体Y_0.06Nb_0.06Hf_0.88O₂の構造及び安定性評価

〇浅沼 周太郎¹、右田 真司¹、太田 裕之¹、森田 行則¹、畑山 祥吾¹ (1.産総研　SFRC)

キーワード：

強誘電体、HfO2、共添加

Y_0.06Nb_0.06Hf_0.88O₂(YNHO)多結晶薄膜は安定な相で強誘電体となっている可能性があるが、その構造とどの程度安定なのかについては未解明であった。Y_0.06Nb_0.06Hf_0.88O₂(YNHO)多結晶薄膜の構造を解析し、安定性について評価したのでその結果について報告する。