講演情報
[7p-P01-1]Self-Ionized Sputteringのプラズマシミュレーション
〇磯野 晋1、田宮 慎太郎1、渡辺 将也1、礒部 倫郎2、浜口 智志2 (1.株式会社アルバック、2.阪大)
キーワード：
セルフイオンスパッタリング、マグネトロンプラズマ、シミュレーション
ダマシン法によるCu配線形成では、スパッタ粒子を効率的にイオン化し、パターン内部に引き込むことが可能なSelf-Ionized Sputtering (SIS)プロセスが利用されている。しかし、SISプロセスの物理現象には未解明な点が多く、シミュレーションを用いて装置開発やプロセス設計に有用な知見を得ることが期待されている。本研究では、SISプロセスの放電現象に注目してシミュレーションを実施した。