セッション詳細
[7p-P01-1~15]8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2025年9月7日(日) 13:30 〜 15:30
P01 (体育館)
[7p-P01-1]Self-Ionized Sputteringのプラズマシミュレーション
〇磯野 晋1、田宮 慎太郎1、渡辺 将也1、礒部 倫郎2、浜口 智志2 (1.株式会社アルバック、2.阪大)
[7p-P01-2]水素フリーDLC 成膜用容量結合型高周波CO プラズマ基礎特性の数値解析
〇(M2)滝口 達也1、針谷 達2、上坂 裕之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大、2.岐阜大)
[7p-P01-3]室温プラズマCVD法によるSiCxNyOz成膜過程の速度論的解析
〇羽深 等1 (1.横国大院理工)
[7p-P01-4]a-C:H/CNP/a-C:H構造薄膜における界面の物理的・化学的特性
〇小野 晋次郎1、奥村 賢直1、鎌滝 晋礼1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九大シス情)
[7p-P01-5]粉体ターゲットプロセスによるFe, Mo傾斜機能性膜の作製
〇川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、池田 晃裕2、佐々木 徹3、菊池 崇士3 (1.佐世保高専、2.崇城大学、3.長岡技科大)
[7p-P01-6]中圧スパッタリングによるナノ構造Sn系薄膜の作製とLiイオン電池負極への応用
〇長谷川 祥之1、上田 竜雄1、寺田 圭吾1、藤掛 大貴1、村瀬 瑠汰1、山崎 稜介1、坂口 浩貴1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
[7p-P01-7]スパッタリングによるLiLaZrO電解質薄膜のイオン伝導率評価
〇村瀬 瑠汰1、上田 竜雄1、寺田 圭吾1、長谷川 祥之1、藤掛 大貴1、山崎 稜介1、坂口 浩貴1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
[7p-P01-8]2元スパッタリングによる Ge-Si 薄膜の堆積と Li イオン電池への応用
〇藤掛 大貴1、上田 竜雄1、寺田 圭吾1、長谷川 祥之1、村瀬 瑠汰1、山崎 稜介1、坂口 浩貴1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
[7p-P01-9]大気圧プラズマCVD法を用いたSi系分離膜の製膜
〇(M1)児島 一輝1、森山 教洋1、金指 正言1、長澤 寛規1 (1.広大院先進理工)
[7p-P01-10]大気圧非平衡RFプラズマジェット処理がポリエーテルエーテルケトン表面に与える物理・化学的影響
〇竹中 弘祐1、中本 壮太郎1、島袋 将弥2、陣田 尭哉1、小鑓 亮輔1、重森 俊祥1、上野 航季1、都甲 将1、内田 儀一郎3、川下 将一2、節原 裕一1 (1.阪大接合研、2.科学大生材研、3.名城大理工)
[7p-P01-11]大気圧マイクロプラズマを用いたポリマー表面処理
〇呉 準席1、谷口 文哉1、森 優斗1、白藤 立1、八田 章光2 (1.大阪公立大工、2.高知大工)
[7p-P01-12]真空プラズマ表面改質を用いたPETフィルム同士の直接接合と光学特性評価
〇(M2)小山 拓海1、杉村 智2、松浦 慶2、平栗 健二1、金杉 和弥1 (1.東京電機大工、2.春日電機)
[7p-P01-13]光散乱式ウエハ表面検査装置を用いたプラズマ照射半導体基板の表面ダメージ評価
〇(M1)山本 悠矢1、今井 賢人1、浅川 和宣2、深津 邦夫2、王谷 洋平3、佐藤 哲也1 (1.山梨大、2.YGK、3.諏訪東京理科大)
[7p-P01-14]PEO処理におけるパルス電圧波形変化による影響
〇梅田 周1、武村 祐一朗1 (1.近大総理工)
[7p-P01-15]Si系およびカーボン系材料のプラズマエッチング耐性評価
〇(M1)豊田 純一1、野口 恭史2、飯塚 敏洋2、佐藤 哲也1 (1.山梨大、2.日本サムスン)