[7p-P01-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[7p-P01-9] 大気圧プラズマCVD法を用いたSi系分離膜の製膜

〇(M1)児島 一輝¹、森山 教洋¹、金指 正言¹、長澤 寛規¹ (1.広大院先進理工)

キーワード：

大気圧プラズマ、アモルファスシリカ膜、ガス分離

膜分離法はエネルギー効率の良い分離技術である。多孔性シリカ膜は，サブナノメートルの微細孔を有する分子ふるい膜で，耐熱性や化学的安定性に優れている。しかし従来のシリカ膜製膜法は高温かつ長時間の工程を要することが課題である。我々は，シリカ膜の新しい製膜手法として大気圧プラズマCVD法の適用を検討してきた。本発表では，Triethylsilaneを用いた製膜および反応ガス組成の影響を検討した。