講演情報
[7p-P06-9]ヘキサン中での超短パルスレーザー照射による金属表面炭化
〇松下 修弥1 (1.名工大工)
キーワード：
超短パルスレーザー、炭化物合成、表面炭化
遷移金属の炭化物は高い触媒能力を示すことから貴金属触媒の代替材料として期待されている。既存の炭化物の合成手法としてはCVD法や熱炭素還元法が一般的であるが装置が複雑であるため、より単純な作製手法が必要とされている。そこで本研究では、ヘキサン中での金属基板表面への超短パルスレーザー照射による、より単純な炭化物合成手法の開発のため、照射後の金属基板表面について各種評価を行った結果について報告する。