講演情報
[7p-P08-8]微細なラメラ構造を形成できるブロックポリマーの開発
〇阿部 諒太1、溝部 祐司1 (1.三井化学㈱)
キーワード：
自己組織化、リソグラフィー、パターニング技術
誘導自己組織化 (Directed Self-Assembly；以下、DSA) は、分子スケールの高精度なパターニングが可能であることから、次世代のリソグラフィー技術として期待されている。発表者らは、ポリオレフィンとポリメタクリル酸メチルからなる新規なブロックポリマーが、DSAによりハーフピッチ 6.5 nmのラメラ構造を形成することを見出した。
発表では、ポリマーの分子構造とDSA形成能の関係についても考察する。
発表では、ポリマーの分子構造とDSA形成能の関係についても考察する。