講演情報
[7p-S103-3]in-situ 分光エリプソメーターによる成膜プロセスモニタリング
〇高島 隼也1 (1.ジェー・エー・ウーラム・ジャパン)
キーワード：
エリプソメーター、膜厚、光学定数
分光エリプソメトリーは、光の偏光状態を解析し、薄膜の厚さや光学特性を非破壊で高精度に評価する技術です。試料表面の反射光の偏光変化を測定し、モデル解析を通じて膜厚や屈折率、消衰係数などを算出します。特にin-situ測定に活用すると、成膜プロセスのリアルタイムモニタリングが可能になり、精密な膜厚制御や品質向上に寄与します。本講演では、この技術の基本原理や測定手法、プロセス評価への応用について紹介します。