2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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セッション詳細

シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（２）

[7p-S103-1~11]原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術（２）

2025年9月7日(日) 13:30 〜 17:15
S103 (共通講義棟南)
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T15_TEL  T15_PIEZO
13:30 〜 13:45奨励賞エントリー

[7p-S103-1]自己組織化単分子膜上での原子層堆積による金属酸化物ナノ構造設計

〇(D)小野 赳1、細見 拓郎1、斉藤 光2、正井 宏3、池内 みどり2、劉 江洋1、田中 航1、高橋 綱己1、寺尾 潤3、柳田 剛1,2 (1.東大院工、2.九大先導研、3.東大院総合文化)
13:45 〜 14:00奨励賞エントリー

[7p-S103-2]新規Sn原料を用いたMOALD-SnO2膜の評価

〇(M1)安藤 昌輝1、大下 祥雄2、沼田 敏典2、Lee Hyunju4、町田 英明3、小椋 厚志1,4 (1.明治大学理工学、2.豊田工業大学、3.気相成長株式会社、4.MREL)
14:00 〜 14:30

[7p-S103-3]in-situ 分光エリプソメーターによる成膜プロセスモニタリング

〇高島 隼也1 (1.ジェー・エー・ウーラム・ジャパン)
14:30 〜 14:45

[7p-S103-4]原子層堆積（ALD）法による表面量子ドットの被覆

モハンマディ ハニフ1、ロカ ロネル1、岩田 直高1、〇神谷 格1 (1.豊田工業大学)
14:45 〜 15:00

[7p-S103-5]原子層堆積（ALD）法による表面量子ドットの清浄化とパッシベーション

モハンマディ ハニフ1、ロカ ロネル1、岩田 直高1、〇神谷 格1 (1.豊田工大)
15:15 〜 15:45

[7p-S103-6]その場観測 エンドポイント検出法を用いたGaN MISHEMTでのサブナノ精度のエッチングプロセス制御

〇冨田 勇人1、Kolja Haberland1、Macello Binetti1、Daniel Cornwell1、Christian Loerchner-Gerdaus1、Thomas Zettler1 (1.LayTec AG)
15:45 〜 16:15

[7p-S103-7]クラスタービームによる表面改質と原子層プロセスへの応用

〇豊田 紀章1、竹内 雅耶1 (1.兵庫県立大工)
16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[7p-S103-8]窒化チタンの熱サイクル原子層エッチング(Thermal-Cyclic ALE)における塩化プロセスのIn-Situ表面反応解析によるメカニズム解明

〇(M2)平井 俊也1、篠田 和典2、グエン ティ トゥイ ガー1、井上 健一1、堤 隆嘉1、石川 健治1 (1.名大、2.日立ハイテク)
16:30 〜 16:45

[7p-S103-9]NbCl5を用いた低温Nb-PEALDプロセス

〇山口 潤1、田中 潤1、中島 章雅1、佐藤 登1、玉置 直樹1、筑根 敦弘1、霜垣 幸浩1 (1.東大院工)
16:45 〜 17:00奨励賞エントリー

[7p-S103-10]表面条件を変化させた際のルテニウムALDに関する研究

〇奥川 昭悟1、ラーマン ガギ　タウヒドゥル2、横川 凌1,2、雨宮 嘉照2、寺本 章伸1,2,3 (1.広大先進理工、2.広大 RISE、3.広大 HiSOR)
17:00 〜 17:15英語発表

[7p-S103-11]Development of Pd Pretreatment for Fabricating Ultrathin Continuous ALD-Co Films

〇(P)Yubin DENG1, Jun Yamaguchi1, Yuhei Otaka1, Souga Nagai1, Noboru Sato1, Naoki Tamaoki1, Atsuhiro Tsukune1, Yukihiro Shimogaki1 (1.The Univ. of Tokyo)
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