講演情報
[7p-S202-5]半導体製造多段⼯程における誤差蓄積構造に着⽬した機械学習モデル設計
〇山田 拓実1、沓掛 健太朗1,2、原田 俊太1,2、宇治原 徹1,2 (1.名大院工、2.名⼤未来研)
キーワード：
誤差蓄積、機械学習、多段工程
半導体製造プロセスなどの多段工程に機械学習を適用する場合、各段階で生じる予測誤差が累積し、最終的な予測精度が低下することが知られているが、その効果的な抑制手法は研究途上である。本研究では、 入力分布の構造に注目し、 誤差蓄積の要因を解析し、その抑制手法を検討した。