講演情報
[8a-N324-11]ウェハドロップレット洗浄技術におけるプロセス室内の湿度と圧力の制御
〇根本 一正1、三浦 典子1、池田 伸一1、原 史朗1,2 (1.産総研、2.(株)Hundred Semiconductors)
キーワード：
ミニマルファブ、ウェハ洗浄技術
ミニマルファブの洗浄装置では、ウェハステージにリングを装着する事によりウェハ表面と裏面に液が溜まり連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、両面洗浄が可能になる。しかし、ウェハ洗浄薬液を超純水に置換するリンスが逆に難しくなるが、間欠的な純水リンスの供給によってリンス効果を上げた。ところが、プロセス室内は水滴の多い環境となった。今回、プロセス室内の湿度を下げることで、水滴発生を抑制できた。