[8a-N405-1~11] 3.5 超高速・高強度レーザー

9:00 〜 9:15奨励賞エントリー

[8a-N405-1] 高次高調波軟 X 線分光装置の開発と薄膜透過率測定への応用

〇高橋 龍之介¹、迫田 壮大¹、山田 楓¹、石井 順久²、和達 大樹^1,3 (1.兵庫県大院理、2.量研関西、3.阪大レーザー研)

キーワード：

高次高調波発生、薄膜、超短パルスレーザー

Arガスに波長1030 nm・パルス幅200 fs のPHAROSレーザを f = 200 mmで集光し、59次（約71 eV）までの超短パルス軟X線高次高調波を生成する分光装置を構築した。得られたEUV光でSi₃N₄薄膜の透過スペクトルを測定し、理論計算と比較することで膜厚を非破壊的に推定した。さらにCrおよびMg薄膜の透過率初期結果も提示し、将来的な材料評価や磁気ダイナミクス測定への応用可能性を示す。