[8a-P05-1~21] 6.4 薄膜新材料

[8a-P05-4] カーボン基板上酸化イットリウムの薄膜の結晶成長

〇牛田 真裕¹、鳥見 聡²、森下 隆宏²、高橋 勲³、金子 健太郎^3,4 (1.立命館大学、2.東洋炭素株式会社、3.立命館大総研、4.RISA)

キーワード：

半導体、酸化物薄膜、ミストCVD