2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)6 薄膜・表面：6.4 薄膜新材料

[8a-P05-1~21]6.4 薄膜新材料

2025年9月8日(月) 9:30 〜 11:30
P05 (体育館)

[8a-P05-1]Ce0.975Sr0.025O2-δエピタキシャル薄膜のトポケミカルフッ化反応

〇中野 歩花1、萩原 美紅1、組頭 広志2、上杉 文彦3、廣瀬 靖4、近松 彰1 (1.お茶大理、2.東北大多元研、3.NIMS、4.都立大理)

[8a-P05-2]セリウムフッ化物エピタキシャル薄膜のフッ化物イオン伝導性

〇萩原 美紅1、中野 歩花1、沓澤 大2、福士 英里香3、大口 裕之3、廣瀬 靖4、近松 彰1 (1.お茶大理、2.電中研、3.芝浦工大理工、4.都立大理)

[8a-P05-3]トポケミカルフッ化反応によるYBaFe2OxFyエピタキシャル薄膜の作製

〇築地 怜奈1、上垣外 明子1、重松 圭2、片山 司3、廣瀬 靖4、近松 彰1 (1.お茶大理、2.科学大フロンティア研、3.北大電子研、4.都立大理)

[8a-P05-4]カーボン基板上酸化イットリウムの薄膜の結晶成長

〇牛田 真裕1、鳥見 聡2、森下 隆宏2、高橋 勲3、金子 健太郎3,4 (1.立命館大学、2.東洋炭素株式会社、3.立命館大総研、4.RISA)

[8a-P05-5]低濃度CrドープITOエピタキシャル成長膜の作製および特性評価

〇曽我 彩乃1、角 卓実1、中村 敏浩1,2 (1.京大院人環、2.京大ILAS)

[8a-P05-6]高温アニールによる直方晶MgGeO3薄膜の作製

〇(M1C)古川 加惟1、藤原 宏平1 (1.立教大理)

[8a-P05-7]TiO2をバッファー層とするガラス上へのバナジル化合物によるVO2膜の化学合成と結晶性に関する研究

〇下野 慎平1、沖村 邦雄1 (1.東海大院工)

[8a-P05-8]TiO2をバッファー層とするガラス上VO2薄膜の作製と相転移特性に関する研究

〇(M1)若山 遼平1、下野 慎平1、モハメッド・シュルズ ミヤ1、沖村 邦雄1 (1.東海大院工)

[8a-P05-9]アノソバイト型V3O5エピタキシャル薄膜の合成

〇野口 快人1、岡 大地1、廣瀬 靖1 (1.都立大院理)

[8a-P05-10]ペロブスカイト水素化物CaLiH3薄膜の合成に向けた生成エネルギー計算

〇(M1)和田 望1、福士 英里香1、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工)
英語発表

[8a-P05-11]Developing High-Performance High-Entropy Alloy Electrocatalyst for Methanol Fuel Cells using Machine Learning-Assisted DFT Calculations

〇(P)Nam Hongoc1, Ravi Nandan2, Quan Manh Phung1, Yusuke Yamauchi1 (1.Nagoya Univ., 2.NIMS)
英語発表

[8a-P05-12]Solid-State dewetting in L10-FePd epitaxial films by a two-step heating method

Vergara Samuel5, Shingo Maruyama1, Soki Yoshida2, Keisuke Haruki1, Naoya Matsumoto2, Mitsuharu Uemoto3, Tomoya Ono3, Shintaro Yasui4, Yasushi Endo1, Masaki Mizuguchi2, Tomoyuki Ogawa1, 〇Hiroshi Naganuma2 (1.Tohoku Univ., 2.Nagoya Univ., 3.Kobe Univ., 4.Sci.Tokyo, 5.Univ. Paris-Saclay)
英語発表

[8a-P05-13]Crystallographic Transformation Pathway and Magnetic Properties of Ni-Mn Alloy Films Synthesized by Co-Precipitation

〇(M2)Fadhilatu Zikra1, Mutsuhiro Shima1, Keisuke Yamada1 (1.Gifu Univ)

[8a-P05-14]電子ビーム蒸着法で作製したSn/Fe-Ni系合金多層膜の超伝導と磁性の組成依存性

〇八田 健誠1、熊澤 宏紀1、山田 啓介1、嶋 睦宏1 (1.岐阜大)

[8a-P05-15]共沈法により作製したNi-Ga系二元合金薄膜の結晶配向制御と磁性

〇佐々木 皓輝1、嶋 睦宏1、山田 啓介1 (1.岐阜)

[8a-P05-16]縦型化学気相蒸着法を用いたIn2S3ナノシートの合成

〇(M1)田中 優歌1、柳瀬 隆1 (1.東邦大理化)

[8a-P05-17](110)配向ScN薄膜の結晶性と電気特性の結晶方位依存性

〇大垣 武1、坂口 勲1、大橋 直樹1 (1.物材機構)

[8a-P05-18]CrN薄膜の電気特性に及ぼすAl添加の効果

〇張 惟喬1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)

[8a-P05-19]Mist CVD法における窒化銅成長にガス種が与える影響

〇(M1)涌井 皇輝1、杉田 直樹1、大村 和世2、月岡 知里1、永井 裕己1、尾沼 猛儀1、本田 徹1、山口 智広1 (1.工学院大、2.東北大)

[8a-P05-20]EDA添加溶液によるMist CVD法Cu3N成長の温度依存性

〇(M2)月岡 知里1、大村 和世2、成田 一生2、永井 裕己1、尾沼 猛儀1、本田 徹1、山口 智広1 (1.工学院大、2.東北大 金研)

[8a-P05-21]スパッタ成膜したY添加AlN薄膜の結晶性評価

〇篠田 恭佑1、竹村 翔悟1、蓮池 紀幸1、西尾 弘司1 (1.京工繊大工芸)
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